9月19日，第十三屆全國(guó)試劑與應(yīng)用技術(shù)交流會(huì)在貴陽(yáng)成功召開，本屆會(huì)議由全國(guó)化學(xué)試劑信息總站主辦，《化學(xué)試劑》編輯部承辦，光華科技作為會(huì)議支持單位，與業(yè)界著名專家學(xué)者、優(yōu)秀企業(yè)代表共同參與此次大會(huì)。
會(huì)議以“試劑在新材料領(lǐng)域中的應(yīng)用”為主題，總結(jié)試劑在新材料領(lǐng)域應(yīng)用的新成果、新進(jìn)展及新技術(shù)，探討科技發(fā)展的新動(dòng)態(tài)和新趨勢(shì)，解析試劑發(fā)展的前景與市場(chǎng)需求。
本次交流會(huì)為大家提供了寶貴的技術(shù)、資訊分享平臺(tái)，光華科技收獲滿滿。展望未來(lái)，我們將聚焦集成電路和顯示面板用超凈高純化學(xué)試劑的研究和產(chǎn)業(yè)化，圍繞集成電路制造中濕制程核心生產(chǎn)工藝的關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題，開展集成電路專用化學(xué)品、超凈高純化學(xué)試劑研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化，開發(fā)出具有自主核心知識(shí)產(chǎn)權(quán)的集成電路制造專用電子化學(xué)品，推動(dòng)國(guó)內(nèi)試劑技術(shù)和集成電路行業(yè)發(fā)展。
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